主題之[7]:半導體化學機械研磨設備_CMP

B0  2015年 10月18日 9:56


版主從事 半導體 化學機械研磨設備_CMP 業,親自參與 規劃 設計 製造 與 試車

半導體 化學機械研磨領域 採用的 結構 傳統設備 近似,但 部分材料 與 介質 (研磨墊 與 研磨微粒子 及 多種化學液) 較 特殊
研磨液(slurry) 供應系統 (中央系統或獨立供應) 是一門 特別行業,具 專門技術。 (自動量測濃度 且 自動補償特定化學成分)

結合 傳動元件化學製程這就是 CMP 設備! (設備價格 非常驚人)
特殊應用領域 的 設備價格 都偏高,因為 冷門,雖有 技術門檻,但 台灣 仍有能力 跨越,這是版主的感觸。


版主也從事 半導體離子植入機 特殊氣體 供應系統,這是 半導體製程中 極度風險 的設備。(環境含量 0.5 ppm,將立即 致死!)
離子植入 半導體 關鍵製程,結合 物理學,電學,化學,機構,控制。 (半導體 離子植入製程,是很吸引人的 知識寶庫!)



半導體設備 門檻很高,其中很大部分 受制於 通訊協定材料
另一重要關鍵,業者 不敢提供機會與舞台,版主曾服務於 台灣人投資的本土化 半導體設備公司,感觸很深。

目前 傳動元件 與 伺服控制器 功能價格已經非常合理,版主鼓勵 會員 勇於踏出一步 實現 智動化夢想

會員 若有相關的 《設計主題》 可提出討論,版主 或能解答一二⋯
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